电子级多晶硅超高纯化机制与沉积技术开发 颗粒硅在流化床内流态的稳定性极大影响产品产率和质量，因此解决流化床床层状态的稳定 性尤为重要，需结合流化床气体分布器设计，来良好控制流化气的流化速率、床层压差、反应温度、物料配比等，来得到粒径均匀，纯度可控 的颗粒硅产品。针对多晶硅的超高纯问题，含量直接影响多晶硅的纯度， 因此在沉积多晶硅之前需将氯硅烷中所含有的大量杂质元素如金属离 子、B、P、O、C等去除，结合高效精馏、络合吸附、深冷除杂等工艺将 氯硅烷纯度提升至8N以上，配合沉积反应器和配套设备的涂层技术，隔 绝杂质的引入，进一步提升多晶硅纯度。